很多朋友對半��(dǎo)體超純水��(shè)備并不是很了��，但是半��(dǎo)體超純水��(shè)備在工業(yè)的運(yùn)用越來越方法，例如液晶顯示屏的清��，半��(dǎo)體物件的清洗，線路板焊接用水等在制造過程中都要用到半導(dǎo)體超純水��(shè)��，下面是小編整理的有��(guān)半導(dǎo)體超純水��(shè)備的介紹��

　　傳統(tǒng)的超純水��(shè)備是電滲��、離子交換器(陽床、陰��、復(fù)床、混��)。我們生��(chǎn)的新型半��(dǎo)體超純水��(shè)備是EDI(連續(xù)電除鹽技��(shù))��(shè)��，可以有效的去除水中幾乎全部的陰陽離子，出水電阻率可��(wěn)定在15MΩ.CM以上，連續(xù)��(yùn)��、無化學(xué)污染、水的利用率��，在超純水制備工藝上有著��(qiáng)大的��(yōu)勢廣闊的��(yīng)用前����

　　所以EDI+反滲透設(shè)備適合于工業(yè)高純��，醫(yī)用超純水，電子反滲透純水系��(tǒng),電子工業(yè)用超純水系統(tǒng),電鍍工業(yè)用超純水系統(tǒng),��(shí)��(yàn)室用超純��,食品飲料用超純水,生物工程超純��,制造業(yè)用超純水��

半導(dǎo)體行��(yè)用超純水��(shè)備主要應(yīng)用于半導(dǎo)體行��(yè)用水，該��(shè)備主要由��(yù)處理、反滲��、EDI模塊和后處理裝置組成，可以有效去除原水中的懸浮物、膠體、細(xì)菌、金屬離子等雜質(zhì)，出水電阻率可以��(dá)��18兆歐以上，完全滿足半��(dǎo)體行��(yè)用水需����

　　半導(dǎo)體行��(yè)用超純水��(shè)備工��

　　1、預(yù)處理-反滲��-水箱-陽床-陰床-混合��-純化水箱-純水��-紫外線殺菌器-精制混床-精密過濾��-用水對象

　　2、預(yù)處理-一級反滲��-加藥裝置(PH��(diào)節(jié))-中間水箱-第二級反滲��-純化水箱-純水��-紫外線殺菌器-0.2��0.5μm精密過濾��-用水對象

　　3、預(yù)處理-反滲��-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水��-紫外線殺菌器-0.2��0.5μm精密過濾��-用水對象

　　4、預(yù)處理-反滲��-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水��-紫外線殺菌器-精制拋光混床-TOC分解��-0.2��0.5μm精密過濾��-用水對象(新工��)

　　半導(dǎo)體行��(yè)用超純水��(shè)備特��(diǎn)

　　1、整體化程度��、易于擴(kuò)��、增加膜��(shù)量即可增加處理量��

　　2、自動化程度��，遇故障立即自停，具有自動保��(hù)功能��

　　3、膜組件為復(fù)合膜卷制而成，表��(xiàn)出更高的溶質(zhì)分離率和透過速率��

　　4、能耗低、水利用率高、運(yùn)行成本低��

　　5、結(jié)��(gòu)合理，占地面積少��

　　6、先��(jìn)的膜保護(hù)系統(tǒng)，在��(shè)備關(guān)��(jī)，淡化水可自動將膜面污染物沖洗干��，延長膜壽命��

　　7、系��(tǒng)無易損部��，無須大量維��，運(yùn)行長期有����

　　8、設(shè)備設(shè)計有膜清洗系��(tǒng)用阻垢系��(tǒng)��

　　半導(dǎo)體行��(yè)用超純水��(shè)備性能��(yōu)勢明��，能夠連續(xù)��(wěn)定的制備品質(zhì)��(yōu)良的超純水，不會��?yàn)闃渲偕Ｖ惯\(yùn)��，超純水裝置��(jié)��(gòu)��(shè)計相對靠��，占地面積小，可以為企業(yè)節(jié)省很多空����

　　以上是關(guān)于半��(dǎo)體超純水��(shè)備的介紹，相信大家在看完此文章后對半��(dǎo)體超純水��(shè)備會有��(jìn)一步的了解，從上面的介紹中我們可以看出半��(dǎo)體超純水��(shè)備因不同的情況，工藝流程也會有所不同��